Установка CИПМРС

Установка CИПМРС (Скоростные Ионно-Плазменные Магнетронные Распылительные Системы)

В конструкции напылительного устройства установки предложены к использованию скоростные ионно-плазменные распылительные системы магнетронного типа (CИПМРС), генерирующие плазменный разряд с плотностью мощности 40-500 Вт/см² и выше, что позволяет при много катодной схеме, состоящей из 2-8 катодов, повысить производительность процесса нанесения покрытия до 10-100 мкм/ч.
На базе CИПМРС наиболее эффективна схема нанесения покрытий — замкнутый паровой котел с циркуляцией плазменного потока.
Схема собирается из 2-х, 3-х, 4-х,…8-ми протяженных CИПМРС.
Внутри котла перед мишенями и ионным источником располагается многопозиционная планетарная карусель, где размещаются кассеты с изделиями, на которые наносится покрытие.

Схема внутрикамерного устройства:

С использованием CИПМРС можно наносить следующие материалы покрытий: металлы и сплавы, химические соединения, композиты, псевдосплавы.

Материалы покрываемых деталей: металлы и сплавы, керамика, стекло, пластики.

Рабочие параметры процесса с использованием CИПМРС:

Предварительный вакуум: P>10^-3 Па;
Рабочий вакуум: Р=1-0,01 Па;
Рабочий газ: Ar, P= 1-0,01 Па;
Реакционные газы: O₂, N₂, C₂H₂, H₂
Напряжение старта: U = 800-1000В;
Рабочее напряжение: U = 350-700В;
Плотность мощности разряда:1-1000 Вт/см²;
Дистанция нанесения: > 5 мм.

Области использования CИПМРС:

Нанесение покрытий для машиностроительной продукции, где необходимо использование защитных функциональных слоев толщиной от 5 до 150 мкм.
Нанесение специальных покрытий, в том числе с аморфной и нанокристаллической структурой. Создание покрытий и новых типов материалов с универсальными свойствами на основе новых типов структур: многослойные и наноструктурированные.


	О компании Технологии нанесения покрытий Новые материалы и покрытия Оборудование для нанесения покрытий Установка для получения наноструктурированных покрытий Установка CИПМРС Установка для электро-дугового нанесения покрытий Установка Булат Установка ВУ-1БС Установка с карусельным транспортером Установка с линейным транспортером Установка ННВ Генераторы плазмы и пучков Услуги и сервис Научно-инженерные разработки Статьи и публикации Наши вакансии		Установка CИПМРС Установка CИПМРС (Скоростные Ионно-Плазменные Магнетронные Распылительные Системы) В конструкции напылительного устройства установки предложены к использованию скоростные ионно-плазменные распылительные системы магнетронного типа (CИПМРС), генерирующие плазменный разряд с плотностью мощности 40-500 Вт/см² и выше, что позволяет при много катодной схеме, состоящей из 2-8 катодов, повысить производительность процесса нанесения покрытия до 10-100 мкм/ч. На базе CИПМРС наиболее эффективна схема нанесения покрытий — замкнутый паровой котел с циркуляцией плазменного потока. Схема собирается из 2-х, 3-х, 4-х,…8-ми протяженных CИПМРС. Внутри котла перед мишенями и ионным источником располагается многопозиционная планетарная карусель, где размещаются кассеты с изделиями, на которые наносится покрытие. Схема внутрикамерного устройства: С использованием CИПМРС можно наносить следующие материалы покрытий: металлы и сплавы, химические соединения, композиты, псевдосплавы. Материалы покрываемых деталей: металлы и сплавы, керамика, стекло, пластики. Рабочие параметры процесса с использованием CИПМРС: Предварительный вакуум: P>10^-3 Па; Рабочий вакуум: Р=1-0,01 Па; Рабочий газ: Ar, P= 1-0,01 Па; Реакционные газы: O₂, N₂, C₂H₂, H₂ Напряжение старта: U = 800-1000В; Рабочее напряжение: U = 350-700В; Плотность мощности разряда:1-1000 Вт/см²; Дистанция нанесения: > 5 мм. Области использования CИПМРС: Нанесение покрытий для машиностроительной продукции, где необходимо использование защитных функциональных слоев толщиной от 5 до 150 мкм. Нанесение специальных покрытий, в том числе с аморфной и нанокристаллической структурой. Создание покрытий и новых типов материалов с универсальными свойствами на основе новых типов структур: многослойные и наноструктурированные.