Дуговые ионно-плазменные технологии

Основные характеристики дуговых ионно-плазменных технологий:

Энергетическая цена атома, испаряемого с поверхности 50 эВ/ат для Cd и 850 эВ/ат для W.
Средний показатель производительности материала в дуге 3х10¹⁸ ат/Кл для Cd и 0,2х10¹⁸ ат/Кл для W.
При среднем токе в стационарной дуге 100 А производительность, например, по титану будет 7х10¹⁹ ат/с ~ 20 г/час, при этом если осаждать это покрытие на площади 1000 см², можно достичь производительности 50 мкм/час.

При зажигании вакуумной дуги, происходит контракция на мишени катода с образованием катодного пятна, из которого выходит пар испаряемого материала, ионизирующийся в электрическом поле вблизи катода. Образующаяся при этом плазма практически полностью ионизирована и состоит из многозарядных ионов и капельной фазы материала мишени, доля которой у легкоплавких металлов составляет ~10%, а у тугоплавких металлов ~1%.

Для удаления капель применяются специальные сепараторы.

Области применения дуговых вакуумных ионно-плазменных технологий:

получение износостойких покрытий для инструментальной промышленности и машиностроения;
создание жаро-, коррозие-, эрозиестойких покрытий для авиационных ГТД и турбин, компрессоров энергетических установок;
биосовместимые покрытия для медицины, например, для стоматологии;
декоративные покрытия

Для реализации дуговых ионно-плазменных технологий применяются дуговые испарители, обладающие высокой скоростью нанесения покрытий. Для них показатель среднего тока на один испаритель в различных конструкциях колеблется от 50 до 500 А, что указывает на перспективность применения дугового испарения металлов для задач высокоскоростного нанесения покрытий.


	О компании Технологии нанесения покрытий Технологии обработки ионными и плазменными пучками Дуговые ионно-плазменные технологии Cкоростное ионно-плазменное вакуумное магнетронное распыление Технологии IBAD Альтернативные технологии Новые материалы и покрытия Оборудование для нанесения покрытий Генераторы плазмы и пучков Услуги и сервис Научно-инженерные разработки Статьи и публикации Наши вакансии		Дуговые ионно-плазменные технологии Основные характеристики дуговых ионно-плазменных технологий: Энергетическая цена атома, испаряемого с поверхности 50 эВ/ат для Cd и 850 эВ/ат для W. Средний показатель производительности материала в дуге 3х10¹⁸ ат/Кл для Cd и 0,2х10¹⁸ ат/Кл для W. При среднем токе в стационарной дуге 100 А производительность, например, по титану будет 7х10¹⁹ ат/с ~ 20 г/час, при этом если осаждать это покрытие на площади 1000 см², можно достичь производительности 50 мкм/час. При зажигании вакуумной дуги, происходит контракция на мишени катода с образованием катодного пятна, из которого выходит пар испаряемого материала, ионизирующийся в электрическом поле вблизи катода. Образующаяся при этом плазма практически полностью ионизирована и состоит из многозарядных ионов и капельной фазы материала мишени, доля которой у легкоплавких металлов составляет ~10%, а у тугоплавких металлов ~1%. Для удаления капель применяются специальные сепараторы. Области применения дуговых вакуумных ионно-плазменных технологий: получение износостойких покрытий для инструментальной промышленности и машиностроения; создание жаро-, коррозие-, эрозиестойких покрытий для авиационных ГТД и турбин, компрессоров энергетических установок; биосовместимые покрытия для медицины, например, для стоматологии; декоративные покрытия Для реализации дуговых ионно-плазменных технологий применяются дуговые испарители, обладающие высокой скоростью нанесения покрытий. Для них показатель среднего тока на один испаритель в различных конструкциях колеблется от 50 до 500 А, что указывает на перспективность применения дугового испарения металлов для задач высокоскоростного нанесения покрытий.